而據(jù)媒體的報(bào)道稱(chēng)，日本政府將在今年春季實(shí)施出口管制，以阻止先進(jìn)半導(dǎo)體技術(shù)被用于軍事用途，雖然沒(méi)說(shuō)針對(duì)中國(guó)，但誰(shuí)都看得出來(lái)，就是針對(duì)中國(guó)。
事實(shí)上，美國(guó)之所以聯(lián)合上日本，最擔(dān)心的事情就是日本賣(mài)光刻機(jī)給中國(guó)，那中國(guó)的芯片工藝，可以達(dá)到5nm。
為何這么說(shuō)？因?yàn)槿毡灸峥档墓饪虣C(jī)，其光刻分辨率目前確實(shí)能夠達(dá)到5nm，也是ASML之后，全球第二家擁有浸潤(rùn)式光刻機(jī)的廠商。
目前光刻機(jī)已經(jīng)發(fā)展到第五代了，也就是EUV光刻機(jī)，而在EUV之前，還有g(shù)-line、i-line、Krf、ArF。
至于g-line、i-line比較落后了，用于um級(jí)芯片的制造，很多廠商都有，就不多說(shuō)了。
而像KrF、ArF也有一個(gè)說(shuō)法，就是DUV光刻機(jī)，這里又分為干式光刻機(jī)、濕式光刻機(jī)（也稱(chēng)浸潤(rùn)式光刻機(jī)）。
其中浸潤(rùn)式光刻機(jī)，是采用193nm波長(zhǎng)的光源，但是光刻時(shí)的介質(zhì)為水，所以193nm光源，等效于143nm，所以這種光刻機(jī)，是能夠制造7nm芯片的，甚至極限使用下，能達(dá)到5nm。目前除了ASML外，尼康也能夠制造。
與ASML不同，尼康的光刻機(jī)，是采用的日本本土的技術(shù)，沒(méi)有合作美國(guó)的技術(shù)或設(shè)備，所以不受美國(guó)長(zhǎng)臂管轄，如果日本愿意，是可以出售這樣的光刻機(jī)給中國(guó)的。
另外佳能在研發(fā)的NIL光刻機(jī)（納米壓印技術(shù)），據(jù)說(shuō)也有望達(dá)到5nm精度，雖然還沒(méi)有研發(fā)出來(lái)，但路線已確定，最近兩到三年有望實(shí)現(xiàn)。
所以美國(guó)很擔(dān)心這件事情的發(fā)生，一旦中國(guó)買(mǎi)到了這些光刻機(jī)，那就卡不住脖子了，所以就找上了日本，希望日本政府出面，禁售這些光刻機(jī)。
對(duì)日本而言，美國(guó)是大哥啊，大哥的話(huà)必須得聽(tīng)，所以自然就聽(tīng)話(huà)，尼康、佳能的先進(jìn)光刻機(jī)，自然就不能賣(mài)給中國(guó)了。
但對(duì)于日本廠商而言，光刻機(jī)如果缺少了中國(guó)市場(chǎng)的支持，很難重新崛起，所以這個(gè)決定不好下，未來(lái)變數(shù)還很大。
