百納米工藝提升性能三千倍，中國芯片彎道超車，外媒：擋不住了

清華大學戴瓊海院士研發(fā)出了芯片的全新架構(gòu)--光電模擬芯片（ACCEL），掙脫了美國摩爾定律的限制，以現(xiàn)有的百納米級別工藝卻能達到7納米工藝的性能，為中國芯片技術(shù)開辟了新道路。

據(jù)了解ACCEL芯片的光學芯片部分只要采用百納米級別工藝，而電路部分更是可以采用180納米CMOS工藝就能生產(chǎn)這種芯片，用如此落后的工藝卻能將芯片性能提升3000倍，與當前的7納米工藝芯片性能相當。

尤為難得的是用如此落后的工藝，卻能擁有超低的功耗，它的功耗只有現(xiàn)有硅基芯片的400萬分之一，這樣的超低功耗對于芯片行業(yè)具有極為重要的意義。

耗電已成為當下數(shù)據(jù)中心最頭疼的問題，據(jù)分析數(shù)據(jù)指出數(shù)據(jù)中心的電力當中有七成耗電浪費在芯片發(fā)熱以及為散熱而建設的空調(diào)系統(tǒng)上，為了降低電力消耗，微軟將數(shù)據(jù)中心建在海底，F(xiàn)acebook將數(shù)據(jù)中心建設在北極圈。

ACCEL芯片的超低功耗，可以大幅降低耗電量，一旦這種芯片實現(xiàn)商用，數(shù)據(jù)中心將無需再建設空調(diào)系統(tǒng)，也無需再選擇在低溫的北極圈建設，而且還能大幅節(jié)省數(shù)據(jù)中心占用的土地。

ACCEL芯片對中國芯片行業(yè)來說尤為重要，由于中國芯片產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展較晚，因此中國在推進先進工藝發(fā)展方面一再受制于海外芯片設備。

7納米工藝以下需要EUV光刻機，而光刻機老大ASML至今都不允許對中國出售EUV光刻機，這已嚴重影響中國芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

美國則借著對全球芯片行業(yè)的影響力，不僅限制先進芯片設備對中國的出口，還限制高端芯片對中國銷售，近期NVIDIA就連定制芯片A800、H800都不被允許對中國出售。

美國如此做，意圖阻止中國發(fā)展先進芯片，更要阻止中國在自動駕駛、人工智能等新興科技領(lǐng)域的發(fā)展，這些新興科技對于一個國家未來科技具有決定性影響。

ACCEL芯片讓這些問題都迎刃而解，芯片工藝將不再是中國芯片的障礙，國產(chǎn)的光刻機已在浸潤式光刻機方面突破，可以實現(xiàn)7納米工藝，如此ACCEL芯片采用國產(chǎn)工藝超越臺積電不是問題。

清華大學的介紹指出ACCEL芯片可以更好適應智能視覺任務和交通場景計算，它的計算能效比現(xiàn)有的AI芯片高出數(shù)百萬倍，在未來人工智能、自動駕駛數(shù)據(jù)噴發(fā)階段可以解決信息爆炸帶來的問題。

近幾年來中國一直都在努力研發(fā)芯片的新技術(shù)路徑，除了ACCEL這種光電模擬芯片之外，中國還在研發(fā)量子芯片等先進芯片技術(shù)，籌建了全球第一條光子芯片、量子芯片生產(chǎn)線，ACCEL芯片技術(shù)為這些先進芯片技術(shù)與現(xiàn)有的硅基芯片技術(shù)融合提供了啟發(fā)，將加速中國新芯片技術(shù)的發(fā)展。