ASML CEO：中國不太可能獨(dú)立造出頂尖光刻機(jī)，但也不是絕對(duì)

ASML有多重要，ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)有多重要，相信每一個(gè)關(guān)注芯片產(chǎn)業(yè)的人都清楚。

在當(dāng)前情況之下，任何一家芯片企業(yè)，如果工藝想進(jìn)入7nm及以下，ASML的EUV光刻機(jī)就必不可少，因?yàn)橹挥兴軌蛏a(chǎn)。

但ASML沒有完全的自主權(quán)，他無法真正的決定將自己的EUV光刻機(jī)賣給誰，最終它還得聽美國的，比如ASML在2018年的時(shí)候，就想向中國出口最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，最后美國不允許他賣，所以4年過去了，這臺(tái)EUV光刻機(jī)都沒交貨。

而今年，ASML甚至因?yàn)槊绹慕?，?duì)浸潤式光刻機(jī)的出口都進(jìn)行了限制，目前兩款2新的不能賣，只有一款相對(duì)落后的浸潤式光刻機(jī)，能賣給中國。

也正因?yàn)槿绱耍灾袊恢痹谂Φ难邪l(fā)自己的光刻機(jī)，特別是EUV光刻機(jī)，一旦中國廠商能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)了，那么ASML就徹底的沒有競(jìng)爭(zhēng)力了。

但近日，阿斯麥（ASML）CEO溫彼得（Peter Wennink）表示?！爸袊惶赡塥?dú)立復(fù)制（replicate）出頂尖的光刻技術(shù)?！?/span>

不過這樣說完之后，他還是做了補(bǔ)充：“這也并不是絕對(duì)不可能，因?yàn)橹袊奈锢矶珊臀覀冞@里是一樣的”。

那么頂尖光刻機(jī)的難點(diǎn)到底在哪里？其實(shí)主要有三塊，一塊是曝光光源，也就是極紫外線的產(chǎn)生。

第二塊是對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，也就是如何將產(chǎn)生的紫外線收集起來，并使其具有方向性和精準(zhǔn)度。第三部分才是透光鏡頭等技術(shù)的整合。

而這三部分之中，前兩部分其實(shí)都不完全算是ASML的技術(shù)，是ASML整合德國TRUMPF、德國的蔡司公司的產(chǎn)品和技術(shù)。第三塊才主要是ASML的技術(shù)。

一臺(tái)EUV光刻機(jī)，有超過10萬個(gè)零件，來自于上千家供應(yīng)鏈，如果中國想要獨(dú)立的制造出來，意味著需要上千家供應(yīng)鏈崛起，然后都達(dá)到頂尖水平，這個(gè)確實(shí)比較難。

不過溫彼得最后補(bǔ)充的話，也是留了余地的，那就是也并不是不可能，還是有可能的。畢竟溫彼得在之前還說過，“出口管制將加快中國自主研發(fā)，15年時(shí)間里他們將做出所有的東西”。

那么15年內(nèi)，是中國研發(fā)出全球最頂尖的光刻機(jī)，還是ASML放開出口？