國產(chǎn)化加快步伐 光刻機發(fā)展前景分析

中商情報網(wǎng)訊：光刻機作為芯片產(chǎn)業(yè)的核心裝備，是芯片制造中最復(fù)雜、最昂貴的設(shè)備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。2023年3月8日荷蘭政府發(fā)布光刻機新出口管制，ASML需要申請出口許可，才能裝運最先進(jìn)的浸沒式DUV系統(tǒng)。為了避免在芯片產(chǎn)能爬坡時被外界的設(shè)備供應(yīng)給“卡脖子”，國產(chǎn)光刻機正在加快突破。

一、光刻機行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

1.光刻機銷量

全球半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)復(fù)蘇,受益于下游晶圓巨大需求、服務(wù)器云計算和5G基礎(chǔ)建設(shè)的發(fā)展,相關(guān)芯片的需求增加。2021年全球集成電路、面板、LED用光刻機出貨約650臺，較2020年增加70臺。其中集成電路制造用光刻機出貨約500臺；面板、LED用光刻機出貨約150臺。2021年全球光刻機銷量為450臺，隨著下游市場需求持續(xù)升高，預(yù)計2023全球市場仍將持續(xù)增長，銷量將超550臺。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

2.光刻機成本占比

光刻機可用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機用于芯片的制造，曝光工藝極其復(fù)雜，后道光刻機主要用于封裝測試，實現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝，技術(shù)難度相對較小。2021年全球前道光刻設(shè)備市場規(guī)模為172億美元，其市場份額在晶圓生產(chǎn)設(shè)備中占比為20%，僅次于蝕刻設(shè)備。光刻機價格昂貴，ASML當(dāng)前EUV光刻機單價為1.5億-2億美元。

數(shù)據(jù)來源：SEMI、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

3.光刻機行業(yè)競爭格局

全球光刻機市場的主要競爭者為ASML、Nikon和Canon。2022年三大企業(yè)光刻機營收合計接近200億美元，合計市場份額超過90%。其中，ASML光刻機營收約161億美元，較2021年增長了23%，Canon光刻機營收約為20億美元，Nikon光刻機業(yè)務(wù)營收約15億美元。ASML市場份額占比82.1%，占絕對龍頭地位。

從產(chǎn)品出貨類型來看，ASML在超高端光刻機領(lǐng)域一家獨大，如EUV、ArFi等類型光刻機，產(chǎn)品眾多；Canon與Nikon產(chǎn)品部分光刻機用于面板業(yè)，部分用于半導(dǎo)體，Canon目前產(chǎn)品集中于特定工藝領(lǐng)域的i-Line和KrF設(shè)備，Nikon擁有除了EUV以外的所有類型光刻機產(chǎn)品，出貨量少于前兩家。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

二、光刻機企業(yè)分析

1.國內(nèi)重點企業(yè)

上海微電子深耕光刻機產(chǎn)品研發(fā)，承擔(dān)多項專項科研任務(wù)。目前公司光刻機產(chǎn)品主要包括IC前道光刻機、IC后道封裝光刻機、面板前道光刻機、面板后道封裝光刻機。作為國內(nèi)光刻機設(shè)備領(lǐng)域的領(lǐng)航者，上海微電子承擔(dān)著國產(chǎn)光刻機設(shè)備的希望，若能實現(xiàn)光刻機設(shè)備的國產(chǎn)化，中國大力發(fā)展的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)必將邁上一個新臺階。

資料來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

2.光刻機零部件相關(guān)廠商

光刻機由光源、照明系統(tǒng)、物鏡、工件臺等部件組裝而成，相關(guān)環(huán)節(jié)企業(yè)進(jìn)度如下：

資料來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

三、光刻機發(fā)展前景

1.政策利好行業(yè)發(fā)展

我國光刻機產(chǎn)業(yè)起步較晚，光刻設(shè)備需要長期大量依賴進(jìn)口，自主可控需求日益突出。同時，由于光刻機屬于高精端產(chǎn)品，其產(chǎn)能有限。因此，從國家安全層面來講，核心技術(shù)必須做到獨立自主，相關(guān)政策也持續(xù)推出。

資料來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

我國對于光刻機行業(yè)較為重視。對于整個IC產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)的政策優(yōu)待以及對于半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的相關(guān)規(guī)劃與推動。其主要表現(xiàn)在資金方面的補助和人才方面的培養(yǎng)，以及進(jìn)出口，投融資方面的政策扶持。

2.半導(dǎo)體市場增長帶動行業(yè)發(fā)展

全球半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)復(fù)蘇,受益于下游晶圓巨大需求、服務(wù)器云計算和5G基礎(chǔ)建設(shè)的發(fā)展,帶動相關(guān)芯片的需求。伴隨著成為世界電子產(chǎn)業(yè)核心，中國目前已經(jīng)成為最大的半導(dǎo)體市場，并且繼續(xù)保持最快的增速。光刻機作為芯片產(chǎn)業(yè)鏈上游的重要組成部分，受此影響得到大力推動。

3.國產(chǎn)代替進(jìn)口需求推動行業(yè)發(fā)展

目前光刻機市場主要由國外三大企業(yè)所壟斷，隨著中國大陸代工廠的不斷擴(kuò)建，未來對于國產(chǎn)光刻機的需求不斷提升，而當(dāng)前國內(nèi)與國外頂尖光刻機制程仍存在較大差距。但為應(yīng)對國外技術(shù)出口管制風(fēng)險，國產(chǎn)光刻機需求上漲，推動行業(yè)加速發(fā)展。