國內(nèi)首款！華中大團隊成功研發(fā)計算光刻EDA軟件

近日，華中科技大學機械學院劉世元教授團隊成功研發(fā)出我國首款完全自主可控的OPC軟件，并已在相關(guān)企業(yè)實現(xiàn)成果轉(zhuǎn)化和產(chǎn)業(yè)化，填補了國內(nèi)空白。

光刻成像原理圖（Source：華中科技大學）

劉世元介紹，光刻是芯片制造中最為關(guān)鍵的一種工藝，就是通過光刻成像系統(tǒng)，將設(shè)計好的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。隨著芯片尺寸不斷縮小，硅片上的曝光圖形會產(chǎn)生畸變。

在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前，都必須采用一類名為OPC（光學臨近校正）的算法軟件進行優(yōu)化。沒有OPC，所有IC制造廠商將失去將芯片設(shè)計轉(zhuǎn)化為芯片產(chǎn)品的能力。

計算光刻OPC原理圖（Source：華中科技大學）

目前，全球OPC工具軟件市場完全由Synopsys、Mentor、ASML-Brion等三家美國公司占領(lǐng)。

劉世元是華中科技大學集成電路測量裝備研究中心、光谷實驗室集成電路測量檢測技術(shù)創(chuàng)新中心主任。

研制的儀器、軟件、測量裝備等多項成果已實現(xiàn)成果轉(zhuǎn)化和產(chǎn)業(yè)化，在中芯國際、長江存儲、華為、京東方、華星光電等微電子、光電子龍頭企業(yè)獲得批量應用。