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不黑不吹,研發出EUV光刻機,我們也無法順利制造7nm芯片
一臺EUV光刻機,年耗電1000萬度,臺積電也要心痛電費
ASML的哀愁:EUV光刻機將不再是制造高端芯片的唯一選擇
多條重磅消息傳出,ASML的EUV光刻機時代正在落幕
發力NIL技術,佳能想給中國提供光刻機,還是媲美EUV的那種
中國研發石墨烯芯片,替代硅基芯片,就不需要EUV光刻機了?
華為公布一項EUV光刻新專利
怕被市場拋棄,ASML急著擴大產能,EUV光刻機提升210%
要造芯片就離不開ASML?EUV技術壁壘雖高,但已經有人做到了繞路而行
光刻技術不再是一家獨大!這些光刻技術未來都有可能替代EUV
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