- 【進展】新研究提出用光為量子自旋“護航”；中國科學院微電子研究所在EUV光刻收集鏡紅外輻射抑制方面取得新進展；中國科學院國家納米科學中心鄢勇團隊在基于離子型神經形態器件構筑智能味覺系統方面取得進展
- 英特爾：ASML首批兩臺High-NAEUV設備已投產
- 可量產0.2nm工藝！ASML公布超級EUV光刻機：但死胡同也不遠了
- 我們彎道超車的機會來了，EUV光刻機，有了新技術，更先進
- ASML攤牌：1.4nm、0.5nm、0.2nm芯片時，才要換EUV光刻機
- ASML要慌：EUV光刻機新光源出現，成本降50%，功耗降80%
- 中國芯的好消息：EUV光刻機沒有下一代，芯片工藝達到極限
- 臺積電認慫，還是要買ASML新EUV光刻機，30億1臺也得買
- 臺積電認栽了，將購買2納米EUV光刻機，不然搞不定2納米工藝
- ASML：中國HW/SMEE造不出EUV光刻機，不擔心競爭
